前處理設(shè)備
分離萃取設(shè)備
濃縮設(shè)備
混合分散設(shè)備
氣體發(fā)生器
清洗消毒設(shè)備
恒溫/加熱設(shè)備
化學(xué)合成設(shè)備
家具
合成/反應(yīng)設(shè)備
標(biāo)液制備設(shè)備
純水/超純水系統(tǒng)
箱體
Vapourtec R系列流動(dòng)合成儀
Vapourtec R 系列架構(gòu)能將多個(gè)模塊組合起來,滿足確切的系統(tǒng)要求??稍诒匾獣r(shí)增加泵送模塊、反應(yīng)器和收集設(shè)備,創(chuàng)造出由久經(jīng)驗(yàn)證的高性能組件構(gòu)成的定制系統(tǒng),所有模塊和組件都設(shè)計(jì)在一個(gè)結(jié)構(gòu)緊湊、便于使用的系統(tǒng)內(nèi)。
獨(dú)特的靈活性:選擇能滿足您的需求并能根據(jù)需要增加更多試劑饋送通道的反應(yīng)器組合。
高精度:自動(dòng)化泵監(jiān)測系統(tǒng)可維持正確的流速。溫度控制更精確。
高生產(chǎn)率:可排隊(duì)自動(dòng)執(zhí)行無數(shù)次無人監(jiān)控的反應(yīng)。能迅速達(dá)到反應(yīng)溫度。是未來流動(dòng)化學(xué)的預(yù)期選擇。
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Vapourtec R系列流動(dòng)合成儀
● 可根據(jù)需要建立模塊化系統(tǒng):R 系列架構(gòu)能將多個(gè)模塊組合起來,滿足確切的系統(tǒng)要求??稍诒匾獣r(shí)增加泵送模塊、反應(yīng)器和收集設(shè)備,創(chuàng)造出由久經(jīng)驗(yàn)證的高性能組件構(gòu)成的定制系統(tǒng),所有模塊和組件都設(shè)計(jì)在一個(gè)結(jié)構(gòu)緊湊、便于使用的系統(tǒng)內(nèi)。
● 多種供選泵送模塊:提供各類用于將試劑饋入反應(yīng)器的供選方案。將2 個(gè)泵送模塊組合起來可產(chǎn)生多達(dá)4 個(gè)試劑通道。
● 反應(yīng)器選擇: R系列系統(tǒng)可單獨(dú)對(duì)4臺(tái)反應(yīng)器進(jìn)行溫度控制。反應(yīng)器可進(jìn)行組合,實(shí)現(xiàn)多步合成,或用于增加反應(yīng)器總?cè)萘?,提高產(chǎn)量或獲得更長的停留時(shí)間。每個(gè)反應(yīng)器都安全地安裝在絕緣管內(nèi)。 新穎的強(qiáng)制對(duì)流系統(tǒng)能確保清潔、準(zhǔn)確、高效率運(yùn)行。
-標(biāo)準(zhǔn)型PFA盤管反應(yīng)器:室溫~150°C
-耐高溫型盤管反應(yīng)器:室溫~250°C
-冷卻式盤管反應(yīng)器: -70°C~室溫
-標(biāo)準(zhǔn)型柱式反應(yīng)器:室溫~150°C
-冷卻式柱型反應(yīng)器: -40°C~室溫
-光化學(xué)反應(yīng)器: -5°C- -80°C
-微混合芯片反應(yīng)器: -40° C到150° C
● 多種供選泵送模塊:提供各類用于將試劑饋入反應(yīng)器的供選方案。將2 個(gè)泵送模塊組合起來可產(chǎn)生多達(dá)4 個(gè)試劑通道。
● 反應(yīng)器選擇: R系列系統(tǒng)可單獨(dú)對(duì)4臺(tái)反應(yīng)器進(jìn)行溫度控制。反應(yīng)器可進(jìn)行組合,實(shí)現(xiàn)多步合成,或用于增加反應(yīng)器總?cè)萘?,提高產(chǎn)量或獲得更長的停留時(shí)間。每個(gè)反應(yīng)器都安全地安裝在絕緣管內(nèi)。 新穎的強(qiáng)制對(duì)流系統(tǒng)能確保清潔、準(zhǔn)確、高效率運(yùn)行。
-標(biāo)準(zhǔn)型PFA盤管反應(yīng)器:室溫~150°C
-耐高溫型盤管反應(yīng)器:室溫~250°C
-冷卻式盤管反應(yīng)器: -70°C~室溫
-標(biāo)準(zhǔn)型柱式反應(yīng)器:室溫~150°C
-冷卻式柱型反應(yīng)器: -40°C~室溫
-光化學(xué)反應(yīng)器: -5°C- -80°C
-微混合芯片反應(yīng)器: -40° C到150° C
電子樣本
Vapourtec 流動(dòng)合成儀 2020