Empowering Excellence. For a better future. | °LAUDA
半導(dǎo)體行業(yè)的工業(yè)溫控
半導(dǎo)體是未來的明星產(chǎn)業(yè),也是 LAUDA 一直在持續(xù)關(guān)注的行業(yè)。在半導(dǎo)體的生產(chǎn)和電子元件測(cè)試過程中,許多工序都必須進(jìn)行精確的溫度控制。
例如,前道工序中的等離子蝕刻或金屬有機(jī)氣相沉積。以及其他典型的溫度相關(guān)測(cè)試內(nèi)容,如功能和負(fù)載測(cè)試的壓力測(cè)試、環(huán)境模擬以及電子組件的在線測(cè)試等。
LAUDA 的工業(yè)溫控產(chǎn)品,如 Variocool 系列、Integral 系列 和 Semistat 系列,在半導(dǎo)體行業(yè)中一直有著成功的應(yīng)用,可以為半導(dǎo)體生產(chǎn)中的溫度控制提供成熟可靠的解決方案。
應(yīng)用工藝:干法刻蝕Dry Etch
溫度控制解決方案:LAUDA Semistat 工藝過程恒溫器
工藝設(shè)定溫度:-20℃ to 90℃
溫度穩(wěn)定性:±0.1℃
在半導(dǎo)體生產(chǎn)中,等離子刻蝕是工藝鏈的核心,有干法刻蝕和濕法刻蝕之分。
干法蝕刻,即在真空蝕刻室中對(duì)半導(dǎo)體板(晶片)進(jìn)行等離子處理,等離子體中的離子轟擊晶片,從而使材料脫離。例如,硅晶片上的氧化層可以用這種方法去除,然后再涂上摻雜層(添加了外來原子,因此具有一定的導(dǎo)電性)。
等離子體的溫度會(huì)影響蝕刻的速度和效率。如果溫度過低,等離子體就不夠活躍,無法有效地?zé)g材料。如果溫度過高,材料可能會(huì)被過度燒蝕,導(dǎo)致誤差和損壞。
因此,在半導(dǎo)體生產(chǎn)中,對(duì)等離子體溫度進(jìn)行精確的溫度控制非常重要,因?yàn)榫募庸し秶谖⒚缀图{米之間。即使溫度發(fā)生微小變化,也會(huì)導(dǎo)致蝕刻結(jié)構(gòu)的尺寸和形狀發(fā)生顯著變化。
LAUDA Semistat 可為干法蝕刻這一敏感工藝提供專門的溫度控制解決方案。LAUDA Semistat 基于帕爾帖原理設(shè)計(jì),可以實(shí)現(xiàn)快速且準(zhǔn)確的溫度控制,并且,與傳統(tǒng)壓縮機(jī)相比,可以節(jié)省至高達(dá) 90% 的能耗。占地空間極小,可以安裝在地板下的夾層中,節(jié)省潔凈室空間。
應(yīng)用工藝:物理氣相沉積Physical vapor deposition(PVD)
溫度控制解決方案:LAUDA Integral XT 工藝過程恒溫器
工藝設(shè)定溫度:-50℃ to -60℃
溫度穩(wěn)定性:±1℃(輸出端)
PVD 技術(shù)是指在真空條件下,采用物理方法,將固體或液體表面氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離子,通過低壓氣體,或等離子體過程,在晶圓表面沉積成具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)。
在沉積過程中,需要保證晶圓的溫度不會(huì)因電源照射所產(chǎn)生的熱量急劇上升,晶圓溫度的穩(wěn)定性是 PVD 工藝的關(guān)鍵之一。
晶圓的溫度在工藝過程中通過靜電卡盤(ESC, E-chuck)控制。靜電卡盤為晶圓背面提供支撐,以靜電吸附的方式保證其固定,并為晶圓提供動(dòng)態(tài)恒定的溫度。
LAUDA Integral XT 通過傳輸?shù)蜏氐娜娮右海?/span>Galden 冷卻液)來控制設(shè)備腔體內(nèi)靜電卡盤的溫度??販鼐瓤筛哌_(dá) ±0.05℃,能夠保證沉積過程中,晶圓溫度的持續(xù)穩(wěn)定。
應(yīng)用工藝:晶圓銅電鍍Electrical Cooper Plating(ECP)
溫度控制解決方案:LAUDA Variocool 循環(huán)恒溫器
工藝設(shè)定溫度:20℃ / 60℃
溫度穩(wěn)定性:±0.1℃(目標(biāo)水箱溫度)
ECP 是將電解質(zhì)溶液中的銅離子還原為銅金屬并沉積在晶圓表面的過程。
電鍍時(shí),陽極材料質(zhì)量、電鍍?nèi)芤撼煞帧囟?、電流密度、通電時(shí)間、攪拌強(qiáng)度、析出雜質(zhì)、電源波形皆是造成鍍層質(zhì)量不佳的因素,需要適時(shí)進(jìn)行控制。其中溫度便是一項(xiàng)重要的參數(shù)。不同鍍層材料和添加劑決定了不同的溫度要求。動(dòng)態(tài)控溫功能和控溫精確度是 ECP 工藝的難點(diǎn)。
LAUDA Variocool 循環(huán)恒溫器,可動(dòng)態(tài)精準(zhǔn)控溫至 0.1℃,保證電鍍腔體內(nèi),水箱內(nèi)部的液體能夠保持始終保持在 穩(wěn)定溫度,繼而和化學(xué)液進(jìn)行持續(xù)的熱交換。穩(wěn)定精確的溫度控制可保證良好的電鍍質(zhì)量。
應(yīng)用工藝:芯片分選Electrical Die Sorting(EDS)
溫度控制解決方案:LAUDA Integral XT 工藝過程恒溫器
工藝設(shè)定溫度:-55℃
溫度穩(wěn)定性:±1℃(輸出端)
EDS 是一種檢驗(yàn)晶圓狀態(tài)中各芯片的電氣特性并由此提升半導(dǎo)體良率的工藝。EDS 可分為五步:電氣參數(shù)監(jiān)控、晶圓老化測(cè)試、檢測(cè)、修補(bǔ)、點(diǎn)墨。其中,檢測(cè)步驟會(huì)對(duì)晶圓進(jìn)行溫度、速度和運(yùn)動(dòng)測(cè)試,以檢驗(yàn)相關(guān)半導(dǎo)體功能。
芯片分選機(jī)一般會(huì)有溫度控制模塊,需要對(duì)模塊提供足夠低的冷源,滿足檢測(cè)中的溫度設(shè)定值。
LAUDA Integral XT 可以通過傳輸?shù)蜏氐睦鋮s液來控制和芯片接觸的模塊的溫度,通過熱傳導(dǎo),達(dá)到對(duì)芯片控溫的效果。
大制冷功率以及控溫穩(wěn)定是此工藝的關(guān)鍵所在。也是 LAUDA Integral XT 的優(yōu)勢(shì)所在。
LAUDA 溫度控制專家,可針對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)的各種應(yīng)用,提供不同型號(hào)的高品質(zhì)溫控設(shè)備。如果您正在為您的公司尋找高質(zhì)量的溫度控制解決方案,我們將為您提供專業(yè)的咨詢服務(wù)!
作為Lauda勞達(dá)的資深合作伙伴和代理商,德祥將為您提供值得信賴的技術(shù)支持和服務(wù)。
如果您對(duì)LAUDA產(chǎn)品感興趣,歡迎隨時(shí)聯(lián)系德祥科技,可撥打熱線400-006-9696。
德祥科技
德祥科技有限公司成立于1992年,總部位于中國香港特別行政區(qū),分別在越南、廣州、上海、北京設(shè)立分公司。主要服務(wù)于大中華區(qū)和亞太地區(qū)——在亞太地區(qū)有27個(gè)辦事處和銷售網(wǎng)點(diǎn),5個(gè)維修中心和2個(gè)樣機(jī)實(shí)驗(yàn)室。
30多年來,德祥一直深耕于科學(xué)儀器行業(yè),主營產(chǎn)品有實(shí)驗(yàn)室分析儀器、工業(yè)檢測(cè)儀器及過程控制設(shè)備,致力于為新老客戶提供更完善的解決方案。公司業(yè)務(wù)包含儀器代理,維修售后,實(shí)驗(yàn)室咨詢與規(guī)劃,CRO凍干工藝開發(fā)服務(wù)以及自主產(chǎn)品研發(fā)、生產(chǎn)、銷售、售后。與高校、科研院所、政府機(jī)構(gòu)、檢驗(yàn)機(jī)構(gòu)及知名企業(yè)保持密切合作,服務(wù)客戶覆蓋制藥、醫(yī)療、商業(yè)實(shí)驗(yàn)室、工業(yè)、環(huán)保、石化、食品飲料和電子等各個(gè)行業(yè)及領(lǐng)域。
2009至2021年間,德祥先后榮獲了“最具影響力經(jīng)銷商”、“年度最佳代理商“、”年度最高銷售獎(jiǎng)“等殊榮。我們始終秉承誠信經(jīng)營的理念,致力于成為優(yōu)秀的科學(xué)儀器供應(yīng)商,為此我們從未停止前進(jìn)的腳步。
我們始終相信,每一天都在使這個(gè)世界變得更美好!
上一篇:真空精餾法在鋰電池電解液回收中的應(yīng)用